日媒：三星半导体战略笼罩“日本出口管制”阴影

　　【环球网科技综合报道 记者 王欢】据《日本经济新闻》7月12日报道，受日本政府对韩国启动半导体材料出口管制影响，在半导体行业有观点认为，韩国三星电子的“非存储器”战略将受到影响。其原因是，日本限制出口的3类材料之一的“光刻胶(Resist)”可能对三星投产最尖端装置产生影响。这关乎三星能否在今后的开发竞争中处于优势地位。

　　行业团体“韩国半导体产业协会”常务安基铉就日本加强出口管制的感光材料指出，“从光的波长来看，被称为EUV的最尖端曝光装置用光刻胶成为限制出口的对象”。在此基础上表示“可能对生产大规模集成电路(LSI)的三星使用EUV的生产线产生影响”。

　　1台EUV售价约200亿日元，操作也很复杂，但是能够使更高性能的半导体开发成为可能。目前，能够在量产线中使用EUV的被认为只有三星和全球最大的半导体代工企业台湾积体电路制造。

　　围绕大规模集成电路，三星在作为智能手机大脑的半导体代工生产等领域与台积电竞争，在图像传感器领域与索尼竞争。全球市场份额在2成左右，均位居第2位。三星的主营业务是保存手机等数据的存储器业务，大规模集成电路在半导体业务营业利润中所占比例还不到5%。

　　但是在存储器市场，去年秋季之前拉动市场增长的美国IT巨头面向服务器的投资暂歇，今年市场行情出现恶化。三星2019年4~6月的营业利润(速报值)较上年同期大幅减少56%。

　　受市场行情发生变化影响，三星4月份宣布，将在2030年之前投入133万亿韩元用于设备投资和研究开发。创始人家族出身的副会长李在